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真空熔煉爐

真空熔煉爐

簡要描述: 真空熔煉爐用途:適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備

  • 生產地址:上海
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-05-22
  • 訪  問  量:2983
詳細介紹

 

真空熔煉爐
GR.VMF系列真空熔煉爐詳細介紹
GR.VMF系列,具有*的性能設計,集多項于一身,安全性,可靠性,實用性均達*效果。
小型廣泛應用于大專院校及科研單位,在真空或保護氣氛條件下對金屬材料(如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉處理,也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。
一、技術參數
1設備名稱:真空感應熔煉爐
2冷態極限真空度:5×103Pa
3額定溫度:1700
4. 額定功率:15KW
5. ;坩堝容量:100g500g(熔液)
6壓升率:≤2Pah
7中頻電源:IGBT
二、結構說明
本產品由爐蓋、爐體、回轉機構、澆注裝置、真空系統及高頻電源控制系統等組成。
1、爐體:為全不銹鋼結構。爐殼采用雙層水冷結構,爐殼溫度不超過50。爐蓋打開方式為手動,并加有鎖緊裝置,爐蓋上設有觀察孔及屏蔽等。
2、回轉機構:與爐體用法蘭連接,感應線圈由銅管繞成螺旋形從爐體引出,采用威爾遜密封,密封可靠。
3、澆注裝置:在坩堝旁邊從爐體內生一平臺,上面放置錠模,料熔煉好以后轉動手柄,將坩堝內的料傾倒在錠模內。
4、真空系統:采用二級泵,油擴散泵(或分子泵)與直聯泵。真空機組上設有放氣閥及充氣閥。
5、電源:電源采用IGBT進口功率器件,更加集成化小型化,有效輸出功率達到90%以上,省電節能,比傳統可控硅中頻節能60%!,電氣系統設有過流、過壓返饋及保護電路。

 

 

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